Prozessoptimierung an einer Anlage zur verweilzeitgesteuerten Ionenstrahl-Formfehlerkorrektur

Process optimisation of a system for residence time controlled ion beam trimming

  • Optimierung der Emissionsstromreglung einer 40mm ICP-Ionenstrahlquelle. Evaluierung von Achsensystemen für verweilzeitgesteuertes Ionenstrahltrimmen. Verweilzeitgesteuerte Ionenstrahl-Formfehlerkorrektur für optische Substrate.

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Metadaten
Author:Sascha Köhler
Document Type:Diploma Thesis
Language:German
Year of Completion:2010
Date of Publication (online):2010/09/13
Release Date:2010/09/13
Tag:Ionenstrahlquelle
ion beam source
GND Keyword:Formmangel; Ionenstrahl; Vakuum
Note:
gesperrt
Institutes:Studienbereich Technik / Produktionstechnik
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Technik / Technik, Technologie

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